激光椭偏仪

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EM01-RD 多入射角激光椭偏仪
发布者:管理员     发布时间:2012-2-29 11:20:00    浏览次数:3074 次

特别声明:

EM01-RD多入射角激光椭偏仪(研发级)已升级至EMPro31 极致型多入射角激光椭偏仪,主要升级内容包括:

  • 单次测量速度提高3倍;
  • 新的仪器外形;
  • 整体稳定性增强.

纳米薄膜高端研发领域专用的多入射角激光椭偏仪,用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项专利技术,仪器操作具有个性化定制功能,方便使用。

特点:

  • 高精度、高稳定性
  •  一体化集成设计
  • 快速、高精度样品方位对准
  • 多入射角度测量
  • 快速反应过程的实时测量
  • 操作简单
  • 丰富的材料库及物理模型
  • 强大的数据分析和管理 
     

应用领域:

  • 可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量,尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发
  • 可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系,以及块状材料(基底)。
  • 应用领域涉及纳米薄膜的几乎所有领域,如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。

性能保证:

  • 高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术,保证了系统的高稳定性和高准确度
  • .高精度的光学自准直望远系统,保证了快速、高精度的样品方位对准
  • 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准,结合先进的采样技术,保证了快速、稳定测量
  • 分立式的多入射角选择,可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量
  • 一体化集成式的仪器结构设计,使得系统操作简单、整体稳定性提高,并节省空间
  • 专用软件方便纳米薄膜样品的测试和建模。 

技术指标:

光波长

632.8nm (He-Ne laser)

膜厚测量重复性

0.01nm (对于Si基底上110nmSiO2膜层)

折射率精度

1x10-4  (对于Si基底上110nmSiO2膜层)

光学结构

PSCA

激光光束直径

<1mm

入射角度

40°-90°可选,步进

样品方位调整

三维平移调节
二维俯仰调节
光学自准直系统对准

样品台尺寸

Φ170mm

单次测量时间

0.2s

推荐测量范围

0-6000nm

最大外形尺寸(xx)

887 x 332 x 552mm (入射角为7)

仪器重量(净重)

25Kg

可选配件:

 


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