教学椭偏仪

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EX2 自动椭圆偏振测厚仪
发布者:量拓科技     发布时间:2013-2-25 15:27:00    浏览次数:3391 次

EX2自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法(或称“零椭偏”)椭偏测量原理,针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。
EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量,以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EX2仪器还可用于同时测量块状材料(如,金属、半导体、介质)的折射率n和消光系数k。

特点

  • 经典消光法椭偏测量原理

  仪器采用消光法椭偏测量原理,易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。

  • 方便安全的样品水平放置方式

  采用水平放置样品的方式,方便样品的取放。

  • 紧凑的一体化结构

  集成一体化设计,简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连,方便使用。

  • 高准确性的激光光源

  采用激光作为探测光波,测量波长准确度高。

  • 丰富实用的样品测量功能

  可测量纳米薄膜的膜厚和折射率;块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。

  • 便捷的自动化操作

  仪器软件可自动完成样品测量,并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。

  • 安全的用户使用权限管理

  软件中设置了用户使用权限(包括:管理员、操作者等模式),便于仪器管理和使用。

  • 可扩展的仪器功能

  利用本仪器,可通过适当扩展,完成多项偏振测量实验,如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。

 

应用

EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量,也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。

技术指标

项目
技术指标
仪器型号
EX2
测量方式
自动测量
样品放置方式
水平放置
光源
He-Ne激光器,波长632.8nm
膜厚测量重复性*
0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
膜厚范围
透明薄膜:1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
折射率范围
1.3 – 10
探测光束直径
Φ2-3mm
入射角度
30°-90°,精度0.05°
偏振器方位角读数范围
0-360°
偏振器步进角
0.014°
样品方位调整
Z轴高度调节:12mm
二维俯仰调节:±
允许样品尺寸
圆形样品直径Φ120mm,矩形样品可达120mm x 160mm
配套软件
* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
最大外形尺寸
(入射角度70°时)550*375*260mm
仪器重量(净重)
约15Kg
选配件
* 半导体激光器
 注:(1)测量重复性:是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。

性能保证

  • ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
  • 专业的椭偏测量原理课程 
  • 专业的仪器使用培训

 


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