ET-S8100A 半导体薄膜检测系统  

概述

随着半导体行业不断实现摩尔定律，薄膜厚度越来越薄，芯片制造商必须实施有效的超薄电介质材料的过程监测。

椭圆偏振法是一种高灵敏度、非破坏性、非接触式的测量技术，能够用于任何透明和半透明介质。它可以测量从单原子层的纳米到几十微米的宽范围厚度区间。椭圆偏振法可以确定单层和多层的厚度，可以在一次测量中同时分析多层，并提取每层的膜厚。此外，它还允许通过提取n和n数据，从深紫外到近红外的宽光谱范围内来绝对表征材料的光学特性。

与其他光学技术不同，这种方法既不需要参考样品，也不需要像反射计那样的参考光束。此外，椭圆偏振法还具有超高精度的优点，因为可以测量不同波长下的光波的相位延迟差。因此，它可以分析复杂的膜层结构，如具有粗糙界面和未知材料成分的多层结构。

ET-S8100A全材质膜厚检测系统集成了超高精度的椭圆偏振法（SE）和高速高精度的光谱反射法（SR），用于完成薄膜制程中的测量挑战。

优点

★应用SE/SR方法对薄膜进行高精度、宽光谱单层和多层薄膜的分层与总厚度测量。      ★支持测量硅、碳化硅、氮化镓、石英、玻璃、砷化镓和其他透明晶圆和薄膜材质。      ★通过配置对应的模块，拓展晶圆翘曲、弯曲、厚度分布等关键尺寸和电阻率检测能力。      ★在批量生产过程中实现高效准确的过程监控        ★专业的应用工程团队可用于客户特定的薄膜模型开发、配方设置和检测系统搭建。

晶圆尺寸和薄膜厚度适用范围

选配适晶圆尺寸直径：100mm、150mm、200mm、300mm。

衬底可识别厚度：选配最大2000um。

薄膜厚度范围：0.1nm-120um。

针对衬底与薄膜同质膜厚检测条件下，厚度范围：0.3um-30um。

多种配件组合与材质适用范围

选配自动晶圆加载、对准、字符识别、数据系统上传、历史数据追踪等功能，适用于任何透明或半透明材质衬底上的任何透明或半透明材质的薄膜厚度检测，衬底与薄膜材质可相同或不同。

EW1000波片检测仪 

概述

EW1000是一款高精度、宽光谱专用波片检测仪。EW1000采用国际先进的椭偏光学调制测量原理、专门用于波片的全面质量检测，如相位延迟差、快慢轴、透射率测量。EW1000适用于波片生产过程中的质量监控、质量终检、 以及新型波片研发中。

技术指标

★相位延迟差  · 测量范围: 0-360°(注:采用光谱测量，可测量零级或多级波片)     · 准确度:入/1000 (对于 1/4 波片)     · 重复性:入 /2000 (对于 1/4 波片)

★快轴方位角  · 测量范围: 0-180°     · 准确度: 1.5°   · 重复性: 0.5°

★单次测量时间  · 典型: 20 秒 / 波长

★视场                 ·Ø20 mm

★空间分辨率      ·10um

★光谱范围       ·400 - 1000nm（其它光谱范围:可定制）

概述

EH100膜厚仪是应用于工业和科研领域中薄膜厚度常规测量的经济型解决方案，仪器一键操作极其简单，可测量从几纳米到数百微米厚的透明或半透明薄膜，一次测量1秒内完成。

EH100膜厚仪基于白光干涉反射光谱的测量原理。宽光谱光波0°垂直入射到样品表面，在样品基底和膜层之间发生干涉，反射光波由高灵敏度光谱阵列探测单元接收，采用专用软件对光波的光谱反射率进行分析，得到样品镀层的膜厚信息。进一步，还可以通过分析得到膜层的其它物理信息(如，折射率、消光系数)。

技术指标

★  快速测量：典型测量时间小于 1 秒，也可实时测量。      ★  大范围膜厚测量：可测量膜厚范围从几纳米到几百微米。       ★  简洁操作：常规操作，只需点击一个按钮即可完成。       ★  高效稳定：适用于工业现场，稳定可靠。       ★  经济实用：能够满足膜厚的常规测量，成本较低。

公司产品

关于我们

北京量拓科技有限公司创建于2008年，是一家专业高端椭偏仪器研发、制造的企业，专注于椭偏测量的方法研究、技术开发、产品设计、测试服务和解决方案。 

公司拥有系列纳米薄膜检测仪器（椭偏仪和膜厚仪为主）、系列偏振器件检测仪器、系列偏振光波检测仪器等三大核心产品族，并拥有对外样品测试服务。此外，公司还拥有从偏振光源、偏振控制、偏振器件到偏振解决方案的产品体系。产品和服务已应用于企业、科研、计量、高等教育等领域，并对外出口多个国家和地区。