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教学椭偏仪EX2

EX2自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法(或称“零椭偏”)测量原理,针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。 EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量,以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。 EX2仪器还可用于同时测量块状材料(如,金属、半导体、介质)的折射率n和消光系数k。
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产品描述
参数

仪器特点

经典消光法椭偏测量原理

仪器采用消光法椭偏测量原理,易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。

方便安全的样品水平放置方式

采用水平放置样品的方式,方便样品的取放。

紧凑的一体化结构

集成一体化设计,简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连,方便仪器使用。

高准确性的激光光源

采用激光作为探测光波,测量波长准确度高。

丰富实用的样品测量功能

可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。

便捷的自动化操作

仪器软件可自动完成样品测量,并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。

安全的用户使用权限管理

软件中设置了用户使用权限(包括:管理员、操作者等模式),便于仪器管理和使用。

可扩展的仪器功能

利用本仪器,可通过适当扩展,完成多项偏振测量实验,如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。

应用领域

EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量,也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。

EX2也可胜任简单科研中膜厚测量任务。

EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。

光学结构

PCSA结构(P-起偏器;C-补偿器; S-样品;A-分析器)

Δ范围为0-360°

测量方式

计算机控制下的自动测量

波长

635nm(半导体激光器)

可选:632.8nmHe-Ne激光器)

入射角

30°-90°,精度0.05°

测量重复性

Si100 nmSiO2样品,膜厚重复性:0.5 nm

膜厚测量范围

透明薄膜:1-4000nm

吸收薄膜则与材料性质相关

折射率范围

1.3  10

偏振器最小步进角

0.014°

偏振器方位角范围

0-360°

载物台

圆形样品直径Φ120mm矩形样品可达120mm x 160mm

样品方位调整

Z轴高度调节:16mm;二维俯仰调节:±4°

 

 

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