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EH200显微膜厚仪

EH200显微膜厚仪主要用于镜面基底上的透明、半透明薄膜样品,尤其是具有表面二维单元结构的样品进行显微测量,可得到微区的单层或少数多层薄膜的膜厚,也可以得到薄膜的光学参数(如,折射率n、消光系数k)。此外,也可以用于粗糙表面上膜厚的测量。
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产品描述
参数

技术指标:

光谱范围:

V370 – 1000nm

VI370 – 1700 nm

其它光谱范围可定制

光谱分辨率:

370 – 1000nm1.6 nm

1000 – 1700nm3.2nm

样品大小:

兼容200mm及以下的晶圆尺寸

特殊尺寸可定制

样品厚度范围:

0 - 50 mm,手动调节样品台高低

样品台调节:

二维俯仰调节:±

XY手动调节:调节范围±12.5mm,其它可选择

测量光斑:

根据选配的显微物镜组件而定

  1. M-X10:物镜倍率X10,测量光斑尺寸为20um
  2. M-X50:物镜倍率X50测量光斑尺寸为4um

膜厚测量范围

(仅测膜厚时):

V20 nm  20 um与样品种类有关

VI20 nm 40 um与样品种类有关

膜厚测量范围

(同时测膜厚和nk时):

V50 nm以上与样品种类有关

VI50 nm以上与样品种类有关

膜层数目:

1-4

膜厚测量重复性

V0.1 nm(对Si100 nmSiO2样品)

VI0.1 nm(对Si100 nmSiO2样品)

准确度

V2 nm0.4 中较大者(对Si上的SiO2样品)

VI2 nm0.4 中较大者(对Si上的SiO2样品)

单次测量时间:

典型时间1-2秒,与测量设置和样品性质有关

 

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