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EGS02广义光谱椭偏仪

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产品描述
参数
  1. 技术指标

一般指标:

 

 

光谱范围:

DU193  1000nm        DUI193  1700nm

DIX193  2100 nm

U:   245  1000nm         UI245  1700nm

UIX245  2100nm       UIX2245  2500nm

V:   370  1000nm         VI370  1700nm

VIX370  2100 nm

NIR1000  1700nm       

NIRX1000  2500nm

其它光谱范围:可定制

入射角:

A:计算机控制自动变入射角度

入射角和反射角单独调节,角度范围为15°10精度0.02 °

性能指标:

测量重复性:

针对Si上的100 nm SiO2膜厚的标片时:

膜厚重复性:0.01 nm,折射率精度:0.0005

准确度:

d(Psi): 0.02 ° d(Delta): 0.04° 90°透射模式时测量空气)

Muller矩阵对角元素 m = 1 ± 0.005,非对角元素m = 0 ± 0.005

单次测量时间:

全光谱y / D值测量,典型测量时间5-10

光学和机械组件:

椭偏原理:

P-C1-S-C2-A模式

P-起偏器,C1-补偿器,S-样品,C2-补偿器,A-检偏器)

光源:

宽光谱光源

起偏器/检偏器:

高质量的偏振棱镜,计算机高精度控制

测量光斑:

手动调节光斑直径,14 mm

光谱分辨率:

193-1000nm1.6 nm 

900-1700nm3.2nm

900-2500nm7.5nm

载物台:

可放置样品的最大尺寸为8吋(200mm)

其它尺寸可定制

样品对准:

自准直望远镜&显微镜,用于精密样品对准(高度和倾斜度)

电子视频式图像对准

探测器:

高灵敏低噪声光谱探测器

控制器:

分体式机箱,含电路板、微控制器单元、电源、光源

计算机:

高品质计算机,含操作系统

输出设备:

软件界面支持输出、输入光谱数据

软件:

界面语言

多语言,包括中/英文,默认中文

权限管理:

包括管理员权限、操作员权限,便于仪器的管理和使用

操作模式:

一键式常规测量模式:初学者可方便应用

高级分析模式:可进行复杂材料的高级分析

光谱测量:

自动设置光学组件方位角

手动/自动执行用户定义的任务

光谱以标准的能量或者波长单位显示

样品响应的监视,在线的y  D表述,Muller矩阵表达

测量结果输出:

椭偏角度yDMuller矩阵元素及其相关的其它输出形式

介电函数

折射率、消光系数

多角度光谱测量、绘图和拟合

选择波长和角度数据剪辑,而不会改变原始数据

合并不同数据于一个文件的合并功能

建模、拟合:

能够拟合多层结构(单层膜、复合膜、周期交替多层膜),得出yD等;

易于使用、用户可扩展的材料数据库

丰富的材料光学常数列表

材料色散模型:包括Cauchy, SellmeierLorentzDrudeF-BTauc-Lorentz等多种材料色散模型

EMA有效介质近似

复杂超晶格膜层处理

每一膜层可视作均匀膜、界面、粗糙面等

  • 多入射角度测量合成数据分析

对光学模型和测量数据的快速回归拟合运算法则

同时图形化显示实测数据与模拟数据

结果显示:

显示图形

  • 先进的报表,输出测量和计算光谱、光学模型和拟合参数

文件管理功能:

软件基于Windows平台,提供全面的文件管理功能

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