EX1 椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）椭偏测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款手动教学仪器。 EX1 仪器适用于纳米薄膜的厚度测量、以及纳米薄膜的厚度和折射率测量。 EX1 仪器还可用于测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率 n 和消光系数 k。

EMPro 系列可在单入射角度或多入射角度下对 样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄 膜样品的膜层厚度、折射率 n 和消光系数 k；也可用 于同时测量块状材料的折射率 n 和消光系数 k；亦可 用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折 射率 n 和消光系数 k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。

EH200显微膜厚仪主要用于镜面基底上的透明、半透明薄膜样品，尤其是具有表面二维单元结构的样品进行显微测量，可得到微区的单层或少数多层薄膜的膜厚，也可以得到薄膜的光学参数（如，折射率n、消光系数k）。此外，也可以用于粗糙表面上膜厚的测量。

ES01系列光谱椭偏仪是ELLITOP针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度快速摄谱型光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 ES01系列光谱椭偏仪基于高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k，或介电函数ε1和ε2），也可用于测量块状材料的光学性质。

EMPro-PV是ELLITOP针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的专用型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EMPro-PV融合多项量拓科技专利技术，采用单多晶一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的瞬间轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。