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膜厚仪EH100

EH100 膜厚仪是应用于工业和科研领域中薄膜厚度常规测量的经济型解决方案,仪 器一键操作极其简单,可测量 1nm –250um 的透明或半透明薄膜,一次测量 1 秒内完成。 EH100 膜厚仪基于白光干涉反射光谱的测量原理, 即宽光谱光波 0°垂直入射到样品表面,在样品基底 和膜层之间发生干涉,反射光波由高灵敏度光谱阵列 探测单元接收,采用专用软件对光波的光谱反射率进 行分析,得到样品镀层的膜厚信息。进一步,还可以 通过分析得到膜层的其它物理信息(如,折射率、消 光系数),光谱范围可覆盖从紫外到近红外。 EH100 膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透 明薄膜样品进行常规测量,可得到单层或少数多层薄 膜的膜厚,也可以得到薄膜的光学参数(如,折射率 n、消光系数 k)。此外,也可以用 于粗糙表面上膜厚的测量。
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