website

膜厚仪EH100

EH100膜厚仪是应用于工业和科研领域中薄膜厚度常规测量的经济型解决方案,仪器一键操作极其简单,可测量1nm –250um的透明或半透明薄膜,一次测量1秒内完成。 EH100膜厚仪基于白光干涉反射光谱的测量原理,即宽光谱光波0°垂直入射到样品表面,在样品基底和膜层之间发生干涉,反射光波由高灵敏度光谱阵列探测单元接收,采用专用软件对光波的光谱反射率进行分析,得到样品镀层的膜厚信息。进一步,还可以通过分析得到膜层的其它物理信息(如,折射率、消光系数),光谱范围可覆盖从紫外到近红外。 EH100膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜样品进行常规测量,可得到单层或少数多层薄膜的膜厚,也可以得到薄膜的光学参数(如,折射率n、消光系数k)。此外,也可以用于粗糙表面上膜厚的测量。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
7
数量
-
+
库存:
暂时无货
1
产品描述
参数
应用领域

仪器适合于工业和科研中的常规测量,可应用于多种薄膜镀层工艺中,如化学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、旋涂成膜工艺等。

典型应用包括:

1、半导体:光刻胶、氧化物、氮化物等;

2、平板显示(包括LCD,PDP,OLED):a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx, MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide等;

3、光学涂层:硬镀膜、增透膜、滤光膜等;

4、功能性涂料:增透型、自清洁型、电致变色型、油类、Al2O3等;

5、高分子聚合物:PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR

主要特点
  1. 快速测量:典型测量时间小于1秒,也可实时测量;
  2. 大范围膜厚测量:可测量膜厚范围从1nm  250um
  3. 简洁操作:常规操作,只需点击一个按钮即可完;
  4. 高效稳定:适用于工业现场,稳定可靠;
  5. 经济实用:能够满足膜厚的常规测量,成本较低。
技术指标

光谱范围

U245 – 1000nm               V370 – 1000 nm

UI 245 – 1700nm             VI370 – 1700nm

NIR950 – 1700nm              其它光谱范围可定制

光谱分辨率

200 – 1000nm1.6 nm        900 – 1700nm3.2nm

样品大小

典型晶圆尺寸:12吋(即直径300mm

其它尺寸可定制

测量光斑

典型1.5mm

可选配微光斑组件,使光斑尺寸最小至20μm

膜厚测量范围

(仅测膜厚时):

U1 nm  40 um          UI1 nm  250 um

V15 nm  100 um        VI15 nm  250 um

NIR100 nm  250 um

膜厚测量范围

(同时测膜厚和nk时):

U50 nm以上            UI50 nm以上

V100 nm以上           VI100 nm以上

NIR300 nm以上

(对Si上的SiO2样品)

膜层数目:

1-4

膜厚测量重复性

U0.1 nm                UI0.1 nm

V0.1 nm                VI0.1 nm

NIR0.15nm

(对Si100 nmSiO2样品)

准确度

2 nm0.4

(对Si上的SiO2样品)

单次测量时间:

典型时间1-2秒,与测量设置和样品性质有关

 

扫二维码用手机看
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
下一个

邮箱:info@ellitop.com

地址:北京市北京经济技术开发区西环南路26号院30号楼4层402C