ES01系列是ELLITOP针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度快速摄谱型光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 ES01光谱椭偏仪基于高灵敏度光谱探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k，或介电函数ε1和ε2），也可用于测量块状材料的光学性质。

EGS02系列是ELLITOP针对科研和工业环境推出的高精度快速摄谱型广义光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 EGS02广义光谱椭偏仪采用宽带超消色差补偿器、利用步进补偿器扫描测量采样模式、基于高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量纳米薄膜样品、块状材料和各向异性材料。

EMPro系列是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro系列可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。

EMPro-PV是ELLITOP针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的专用型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EMPro-PV融合多项量拓科技专利技术，采用单多晶一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的瞬间轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。

EX2 自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。 EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。 EX2仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。

EH100 膜厚仪是应用于工业和科研领域中薄膜厚度常规测量的经济型解决方案，仪 器一键操作极其简单，可测量 1nm –250um 的透明或半透明薄膜，一次测量 1 秒内完成。 EH100 膜厚仪基于白光干涉反射光谱的测量原理， 即宽光谱光波 0°垂直入射到样品表面，在样品基底 和膜层之间发生干涉，反射光波由高灵敏度光谱阵列 探测单元接收，采用专用软件对光波的光谱反射率进 行分析，得到样品镀层的膜厚信息。进一步，还可以 通过分析得到膜层的其它物理信息（如，折射率、消 光系数），光谱范围可覆盖从紫外到近红外。 EH100 膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透 明薄膜样品进行常规测量，可得到单层或少数多层薄 膜的膜厚，也可以得到薄膜的光学参数（如，折射率 n、消光系数 k）。此外，也可以用 于粗糙表面上膜厚的测量。