一、概述
EIS01成像光谱椭偏仪是一种对样品表面和界面进行高灵敏分析的仪器。该仪器是在传统椭偏测量技术基础上，集成了高空间分辨的显微成像技术以及高精度的光谱扫描技术，所以，该仪器具有达到次纳米级的纵向灵敏度、达到微米级的横向分辨率、以及可进行快速椭偏成像的技术优势。
EIS01成像光谱椭偏仪适用于对纳米薄膜样品进行高精度的膜厚和折射率检测，尤其适用于对超薄膜、表面、表界面和相关材料的微观尺度结构、薄膜厚度、折射率和吸收系数等参数进行高空间分辨成像的测量。
EIS01成像光谱椭偏仪可应用于半导体集成电路芯片、生物分子芯片、二维材料等领域，服务于生物医药开发、医疗诊断等产业。
二、仪器功能
（1）可测量样品表面微结构的膜厚d和折射率n的成像；
（2）可快速测量大面积样品的膜层分布、表面污染、内部缺陷等；
（3）可高灵敏地测量格式化样品表面上各单元之间的物性差异；
（4）可测量样品的椭偏角Ψ和Δ及其分布；
（5）可测量样品的反射率R、透射率T及其分布；
（6）可测量块状材料的物理性质（包括：折射率n、消光系数k，或介电函数ε1和ε2等）及其分布；
（7）可测量单层、多层纳米层构样品的膜厚d和物理参数（包括：折射率n、消光系数k，或介电函数ε1和ε2）及其分布；
（8）Mueller矩阵的12个归一化元素；
（9）具备布鲁斯特角显微成像功能，可实现气液界面薄膜的显微观测。
三、技术优势
（1）微米级的横向分辨率：可达到1um量级；
（2）次纳米级的纵向分辨率：可达到原子层量级的检测灵敏度；
（3）先进的旋转补偿器测量技术：椭偏角Δ的测量范围是0-360°，无测量死角，也可消除粗糙表面引起的消偏振效应对结果的影响；
（4）可靠的长期准确度：采用多象限误差消除方法、宽带超消色差补偿器等方式，保证了长期的准确度和可靠性；
（5）一键式仪器操作：对于常规测量，一键完成测量、建模、分析、结果输出；
（6）多配置可选：可根据应用需求，灵活选配仪器的硬件和软件。