椭圆偏振法(SE)是一种表面敏感、非破坏性、非侵入性的光学技术,广泛应用于薄层和表面特征的测量。椭圆偏振光谱适合分析的材料包括半导体、电介质、聚合物、有机物和金属。 测控系统的硬件由高精度X-Y 运动平台、晶圆机械手、定位寻边系统、Wafer ID 字 符识别系统、高分辨率椭圆偏振光检测系统、数据获取与检测模组、检测控制系统以及自动上下料系统组成。
一、概述
椭圆偏振法(SE)是一种表面敏感、非破坏性、非侵入性的光学技术,广泛应用于薄层和表面特征的测量。椭圆偏振光谱适合分析的材料包括半导体、电介质、聚合物、有机物和金属。
测控系统的硬件由高精度X-Y 运动平台、晶圆机械手、定位寻边系统、Wafer ID 字 符识别系统、高分辨率椭圆偏振光检测系统、数据获取与检测模组、检测控制系统以及自动上下料系统组成。
光谱椭偏仪ES01
椭偏膜厚仪ESH
波片检测仪EW1000
激光椭偏仪EMPro
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广义光谱椭偏仪EGS01
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