一、概述
EH200膜厚仪是应用于工业和科研领域中微区薄膜厚度常规测量的经济型解决方案，仪器一键操作极其简单，可测量从几纳米到几百微米范围内的透明或半透明薄膜，一次测量1秒内完成。
EH200膜厚仪基于白光干涉反射光谱和显微镜相结合的测量原理。宽光谱光波垂直入射到样品表面，在样品基底和膜层之间发生干涉，反射光波由高灵敏度光谱阵列探测单元接收，采用专用软件对光波的光谱反射率进行分析，得到样品镀层的膜厚信息。进一步，还可以通过分析得到膜层的其它物理信息（如，折射率、消光系数），光谱范围可覆盖从紫外到近红外。采用高倍率显微物镜实现对微区的显示和测量。
EH200膜厚仪主要用于镜面基底上的透明、半透明薄膜样品，尤其是具有表面二维单元结构的样品进行显微测量，可得到微区的单层或少数多层薄膜的膜厚，也可以得到薄膜的光学参数。
二、技术优势
■ 显微测量
■ 快速测量小于1s
■ 大范围膜厚测量
■ 简洁操作
■ 高效稳定
■ 经济实用
■ 可实现手动设置测量坐标且自动离线测量