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显微膜厚探头EH200-D 价格:

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产品介绍 技术参数


一、概述

EH200显微膜厚仪是应用于工业和科研领域中微区薄膜厚度常规测量的经济型解决方案,仪器一键操作极其简单,可测量从几纳米到几百微米范围内的透明或半透明薄膜,一次测量1秒内完成。

EH200显微膜厚仪基于白光干涉反射光谱和显微镜相结合的测量原理。宽光谱光波垂直入射到样品表面,在样品基底和膜层之间发生干涉,反射光波由高灵敏度光谱阵列探测单元接收,采用专用软件对光波的光谱反射率进行分析,得到样品镀层的膜厚信息。进一步,还可以通过分析得到膜层的其它物理信息(如,折射率、消光系数),光谱范围可覆盖从紫外到近红外。采用高倍率显微物镜实现对微区的显示和测量。

EH200显微膜厚仪主要用于镜面基底上的透明、半透明薄膜样品,尤其是具有表面二维单元结构的样品进行显微测量,可得到微区的单层或少数多层薄膜的膜厚,也可以得到薄膜的光学参数(如,折射率n、消光系数k)。此外,也可以用于粗糙表面上膜厚的测量。


二、产品特点:

显微测量:可对微米级尺寸的微小区域进行显微测量;

快速测量:典型测量时间1-2秒;

大范围膜厚测量:可测量膜厚范围从纳米到百微米量级;

简洁操作:常规操作,只需点击一个按钮即可完;

高效稳定:适用于工业现场,稳定可靠;

经济实用:能够满足膜厚的常规测量,成本较低。


EH200-X.jpg

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